等离子体增强化学气相沉积_半导体薄膜沉积工艺

等离子体在经历受激、分解、离解和离化过程后，产生具有高反应活性的中性物种。这些活性物种被吸附在较低温度的衬底表面，通过非平衡化学反应进行沉积，从而实现薄膜的生长。